机械剥离氧化硅/硅基底单层二硒化钨

保存条件 ：常温

保质期 ：3年

英文名 ：Mechanical exfoliation Wse2 on SiO2/Si

库存 ：5000

供应商 ：中科雷鸣（北京）科技有限公司

CAS号 ：/

规格 ：1片

中文名称: 机械剥离氧化硅/氧化硅基底二硒化钨
英文名称：Mechanical exfoliation WSe2 on SiO2/Si
性质
形态：薄膜
参数
基底：氧化硅/硅
基底尺寸：10 mmx10 mm
氧化层：300nm
单个WSe2面积: ≥10 µm2
应用
机械剥离制备的二硒化钨，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。