pMW219 DNA 克隆载体

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品牌:FUJIFILM Wako 品牌认证

货号:310-02571

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产品编号 产品等级 产品规格 产品价格
310-02571   10μg
 


pMW219 DNA

克隆载体

 

 

原理

 

  pMW219 DNA由Cosmid lorist6、质粒pBR322、质粒pSC101、质粒pUC19的DNA片段构建而成。

  下图展示了限制性内切酶图谱。(参考使用例图片

 

 

优点、特色

 

 

u 可用于克隆在多拷贝质粒里难以克隆的基因

  (DNA代谢相关的蛋白编码基因,如,聚合酶、连接酶等基因)

u 在同一菌株内拥有pBR系、pUC系的DNA复制开始区域的质粒里,克隆了基因A的同时也想表达其他

  基因B时,可作为克隆基因B的克隆载体

u 可用于克隆多克隆位点Hind III、Xba I、BamH I、Sma I、Xma I、Kpn I、Sac I、EcoR I的唯一切割部位

u 在多克隆位点里克隆基因,使用宿主大肠杆菌lacZ、N末端有缺陷的菌株(如JM109)并添加

  X-Gal和IPTG,重组体容易识别白色菌落旁边蓝色的非重组体

u 可在卡那霉素培养基上选择转化的大肠杆菌

 

来源:           有质粒pMW219的E. coli JM109

M.W.:         2.55 x 106 Da(3,923 bp)

试剂制备:    有质粒pMW219的E. coli JM109通过溴化乙锭——氯化铯密度梯度离心分离

形状:           10 mmol/l Tris-HCl(pH 8.0), 1 mmol/l EDTA

浓度:           0.1 ~ 0.5 μg/μl

纯度:           A260/A280 ≒ 1.8(此数值可能因批次不同有异)

碱基配列:    EMBL, GenBank, DDBJ Accession No. AB005478(pMW219)

参考:           pMW218・219 DNA的限制性内切酶图

 

 

 

案例、应用

 

构建模式图】

 

 

 

 

       par:     质粒稳定化区域

       ori:      DNA复制开始区域

       rep:     DNA复制调节基因

       lacZ:    β-半乳糖苷酶基因

       Kmr:    卡那霉素抗性基因

 

 

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