机械剥离氧化硅硅基底二硫化钨

库存 ：422

保质期 ：6月

供应商 ：上海晶抗生物工程有限公司

保存条件 ：常温干燥避光

规格 ：1片

中文名称： 机械剥离氧化硅硅基底二硫化钨

英文名称： Mechanical exfoliation WS2 on SiO2/Si

货  号： ML1110

CAS号：     7440-33-7

包  装： 1片

保质期：  6月常温干燥避光

机械剥离氧化硅硅基底二硫化钨性  质

形  态：薄膜

参  数

基  底： 二氧化硅/硅

氧化层： 300nm

基底尺寸： 10 mmx10 mm

WS2面积： ＞10 µm2

应  用： 机械剥离制备的二硫化钨，该机械剥离氧化硅硅基底二硫化钨类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。