1700℃真空CVD系统由高温管式炉,高真空扩散泵/分子泵系统,多通道高精度数字质量流量控制系统,自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点:
1、真空系统可根据使用要求选择我司扩散泵机组或分子泵机组;
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;
4、每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全可靠。 5、采用水冷KF快速法兰密封,装卸方便快捷;
6、管路采用世界顶级Swagelok卡套连接,不漏气;
7、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,保证设备及实验的安全性。主要用途和适用范围:适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。主要技术参数:
主要技术参数:
SGL-1700 高温炉 |
控温方式 |
采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制50段升降温程序。 |
加热元件 |
进口1700型优质硅钼棒 |
工作电源 |
AC220V 50Hz/60Hz;额定功率6kw |
炉管材质 |
99瓷氧化铝刚玉管 |
炉管尺寸 |
Φ60/80/100*/1000mm |
工作温度 |
≤1600℃ |
最高温度 |
1650℃ |
恒温精度 |
±1℃ |
升温速度 |
≤10℃/min |
测温元件 |
B型热电偶 |
密封方式 |
不锈钢水冷KF法兰挤压密封 |
ZK 真空系统 |
|
ZK-F |
ZK-K |
真空范围 |
0.1-0.001Pa |
0.1-0.01Pa |
极限真空 |
5.0*10^-5Pa |
5.0*10^-4Pa |
产品配置 |
双级旋片真空泵+分子泵 |
双级旋片真空泵+扩散泵 |
冷却方式 |
风冷 |
水冷 |
抽 速 |
110L/S |
100L/S |
测量方式 |
复合真空计 |
真空规管 |
电阻规+电离规 |
ZDC-I 压强控制系统 |
测量范围 |
1*10^5~1*10^-1 Pa |
稳压 (真空)范围 |
1*10^3~1*10Pa |
压力 (稳定精度) |
±3% |
控制范围 |
2.5*10^3~5*10^-1 Pa |
控制精度 |
± 1% |
HQZ-Ⅲ 混气系统 |
控制方式 |
D07-7K质量流量计,D08流量显示仪 |
流量规格(可订制) |
0-500SCCM /0-1SLM, |
线 性 |
±1%F.S. |
准确度 |
±1%F.S. |
重复精度 |
±0.2%F.S. |
响应时间 |
≤2sec |
耐 压 |
3MPa |
气路通道 |
3通道(根据客户需求) |
针 阀 |
316不锈钢 |
管 道 |
Φ6mm不锈钢管 |
接 口 |
SwagelokΦ6mm |