机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼

价格： ¥3500

品牌：XFNANO

货号：XFG16

产品详情

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库存：大量

CAS号：1317-33-5

规格：1 盒

产品名称

中文名称: 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼

英文名称：Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3

性质

形态：薄膜
参数

基底：氧化铝

基底尺寸：10 mmx10 mm

MOS2面积: ＞10 µm2

应用
先丰纳米最新推出机械剥离制备的二硫化钼，相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料。

其他信息
详情请发邮件至：sale@xfnano.com