Stemolecule™ BMP Inhibitor LDN-193189

Stemolecule™ BMP Inhibitor LDN-193189

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英文名 :Stemolecule™ BMP Inhibitor LDN-193189

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供应商 : 上海信裕

产品简介:对于Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189培养防止污染的措施等注意事项,相信各位培养细胞老师都知道的差不多,其实实际情况也就是那些步骤了,主要就是在于各位操作的娴熟程度了。所以这个预防还是在于大家的锻炼。
对于贴壁生长的Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189,相对来说比较简单但很麻烦。以下我主要讨论贴壁生长的Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189
在讨论之前,大家首先要有一个概念,即洁净区,并不是没有细菌,而是细菌的数量非常少,国家标准100级的洁净标准是浮游菌数不得超过5个每立方米,沉降菌数不得超过1个每培养皿.而国外的标准比我国的还要高一点,要求的数量更少。
所以在我们的洁净操作台里,并不是真正一个细菌都没有的,所以在操作的时候还是要尽量利索迅速地完成操作。尽量减少进入培养体系细菌的数量。
处理方法如下:
1).将污染的Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189培养液倒掉,转烧瓶口,加入10mlPBS,适当晃动清洗培养瓶,然后倒掉。转烧瓶口。
2).继续加入10mlPBS,同样方法晃动,清洗培养瓶,然后倒掉。
3).继续加入5mlPBS,同样方法洗瓶,主要是培养面,然后倒掉。
4).重复步骤3再洗。
5).重复步骤3再洗。
6).加入3-5ml双抗,洗瓶,静置3-5分钟,然后吸出。
7).加入3ml双抗,洗瓶,静置3-5分钟,然后吸出。
8).再加入5mlPBS洗瓶,然后吸出。
9).加入10ml培养液,加入2ml双抗,将换好新的培养液Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189放置培养箱培养,5小时之后,倒掉培养基,加入PBS洗瓶两次,然后加入胰酶消化,吹打后置于离心机800-1000r/min离心,然后洗一次。置于新的培养瓶里培养,培养体系加入2ml双抗。
10).24h之后,视情况换液,若仍然污染严重,培养基浑浊,重复以上步骤,若看不到污染物,则继续步骤1)、3)、4)、6)、8),然后加入培养液培养Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189培养体系加入2ml双抗.
11).24h之后,若仍污染严重,可再重复一次,若还污染只能弃之(不过一般没有出现这种情况),若镜下不见污染物,则换液PBS洗瓶,正常培养。
以上是对于细菌污染(常见为金黄色葡萄球菌和大肠杆菌);若为霉菌或者真菌污染,加入两性霉素B清洗和培养,终浓度一般为2.5μg/ml(在30μg/ml时会有细胞毒性)。另外也可以选择在Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189培养基里加3ug/ml的制霉菌素或放线菌素D。其它操作同;预防为主!!所以处理细菌污染的重要原则就是:无限地稀释细菌的浓度,无限地减少细菌的数量!尤其注意血清的质量!这个是主要来源。一般建议用北美血清。
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以上方法主要是针对贴壁生长的Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189,在操作的过程中,一定要小心操作动作,轻柔缓慢,切忌大动作鲁莽。防止Stemolecule BMP Inhibitor LDN-193189脱落。

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