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文献和实验
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库存 :100
保修期 :1年
德国PVA-TePla微波等离子体去胶机(整机进口),性能稳定,去胶均匀。
典型应用:
去除光刻胶 Photo-resist stripping
去除残胶 Wafer descum
晶圆和衬底的清洁 Wafer and substrate cleaning
su-8灰化 Su-8 ashing
氮化硅、聚酰亚胺等的刻蚀 Etching of silicon nitride, pi, etc.
刻蚀钝化层 Etching of passivation layers
逆向分析/失效分析中的器件开封 Device decapsulation for failure analysis
微量分析中低温材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis
过滤器和薄膜的清洁 Cleaning of filters and membranes
规格参数:
2.45GHz风冷微波电源(0~600w可调),
石英或陶瓷腔体,
最多6路气体,
兼容8英寸及以下晶圆
可选配法拉第桶
外形尺寸:775×749×781 mm
北京哲勤科技有限公司上海办事处
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