原子层沉积技术PICOSUN™ALD-R系列

库存 ：1000

供应商 ：PICOSUN

现货状态 ：现货

保修期 ：1

名称：原子层沉积技术PICOSUN™ALD-R系列：
型号：PICOSUN™R-200标准型、PICOSUN™R-200高级型
产地：芬兰
品牌：PICOSUN

原子层沉积技术PICOSUN™ALD-R系列介绍：
PICOSUN™R系列ALD系统是一款研发型产品，应用领域广泛，例如：电子元器件， MEMS器件、显示器、发光二极管、激光器以及透镜、光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等3D部件。
PICOSUN™R-200标准型ALD系统是ALD科研设备市场的领导者。它已经成为一些创新公司和研究机构的必备研发工具。灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜，超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。专利的热壁设计、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的材料。即使在最具挑战性的多孔材料、超高深宽比和纳米颗粒表面沉积，系统都能实现极好的均匀性，这些都归功于我们的专利技术Picoflow™。Picosun™R-200标准型系统配备功能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体源。系统可集成手套箱，粉末反应腔和各种在线分析系统，使您的研究变得高效和灵活。即使将来您改变研究领域，它仍然会是您最好的帮手！

原子层沉积技术PICOSUN™ALD-R系列 技术参数：

衬底尺寸和类型	• 50-200 mm/片 • 156 mm x 156 mm太阳能硅片 • 3D 复杂表面衬底 • 粉末与颗粒 • 小批量 • 多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度	• 50 – 500°C
前驱体	• 液态，固态，气态，臭氧源 • 4根独立源管线，最多加载6个前驱体源
选件	• PICOFLOW™扩散增强器，RGA、N2发生器、尾 气处理器、定制设计，手套箱集成（用于惰性 气体下装载）
基片加载	• 气动升降，手动加载 • 预真空室安装磁力操作机械手（Load lock）
沉积材料	• Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金属 Pt 或者 Ir