痕量分析用纯化取水终端 Genie De-ion

痕量分析用纯化取水终端 Genie De-ion

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品牌:RephiLe/乐枫生物 品牌认证

货号:RG0P0U005

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库存 :100

国食药监械注册号 :

保修期 :一年

现货状态 :现货

供应商 :上海乐枫生物科技有限公司

    痕量和超痕量分析在科研、工业和检测等各个领域发挥着越来越重要的作用,这些极高灵敏度的分析技术对分析过程中的污染风险零容忍。纯水在其中,参与清洗部件、冷却、标准曲线绘制、样品制备等诸多环节。水的纯度,必须满足严苛的要求。

    Genie De-ion 是乐枫专门设计,与Genie G 或Genie PURIST 智能超纯水系统配合使用的纯化、取水终端,提供超低元素水平的分析级超纯水,离子含量低至ppt 甚至亚ppt 水平,使用者可通过Genie 主控屏、终端触摸屏或脚踏开关控制取水。Genie De-ion 适用于电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)、石墨炉原子吸收(GF-AAS)等各种痕量/ 超痕量元素分析技术。

Genie De-ion

 

优势特点

● 装有 ICP 型超纯化柱,对超纯水进行深度纯化进一步去除痕量离子,持续提供ppt 或亚ppt 离子水平的超纯水。

· 优化水路设计,提高过水量,水质稳定。

· 柱体超强耐压,接口双重密封,漏水风险低。

· 带智能识别码(RFID),智能化管理,工作状态实时监控,随时追溯水质历史数据、使用参数等。

· 安装更换简单,可以单手操作。

● 终端自带彩色触摸屏

· 2.4 英寸,实时显示水质/ 流速等常用信息。

· 可戴手套和带水操作。

· 设置手动或定量取水,调节流速。

● 布局灵活,安装便利,节省实验室空间

 

 Genie De-ion

 

 典型应用

 · ICP-MS 分析

 · 石墨炉原子吸收光谱分析

 · 痕量和超痕量元素分析

 · 关键仪器清洗等

 应用领域 / 行业

 · 电子、芯片、半导体

 · 食品、农业、药品、医学

 · 环保、地质

 · 核工业、能源、法医、

 · 化学化工等

性能指标

 超纯水技术指标

 取水流速

 0 - 1.5 L/min

 电阻率 ( @ 25℃ )

 18.2 MΩ·cm

 TOC

 < 5 ppb

 尺寸及重量

 宽 × 深 ×高

 21 cm × 29 cm × 53 cm

 重量

 21 kg

上海乐枫生物科技有限公司

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入驻年限:15年

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